Αυτό το μάθημα στοχεύει στην εισαγωγή και εξοικείωση του του φοιτητή στις σύγχρονες μεθόδους σύνθεσης και δημιουργίας νανοδομημένων υλικών και εν γένει χαμηλοδιάστατων υλικών (λεπτές επικαλύψεις, νανοσωματίδια, νανοσύρματα) τα οποία έχουν ήδη πληθώρα εφαρμογών στην καθημερινότητα.

Κατά την διάρκεια των διαλέξεων περιγράφονται και συζητούνται πολλές τεχνικές από αυτές που ήδη χρησιμοποιούνται στην δημιουργία τέτοιων υλικών. Επιπλέον περιγράφεται η επίδραση των τεχνικών σύνθεσης στην δομή και μικροδομή των σύγχρονων υλικών με αποτέλεσμα την επίτευξη των ιδιοτήτων τους.

Μέρος των τεχνικών που θα μελετηθούν θα είναι η ιοντοβολή (sputtering) με πλάσμα και με ιοντική δέσμη (Ion Beam sputtring), η επιταξία με μοριακή δέσμη (Molecular Beam Epitaxy), η εναπόθεση με παλμικό λέϊζερ (Pulsed Laser Deposition), η χημική εναπόθεση με ατμούς (Chemical Vapor Deposition) και η θερμική εξάχνωση (thermal evaporation). Επιπρόσθετα θα παρουσιασθεί και η λιθογραφία η οποία αποτελεί κύριο συστατικό της σύγχρονης μικροηλεκτρονικής και νανοτεχνολογίας. Έμφαση θα δοθεί και σε παραδείγματα προηγμένων υλικών που φτιάχνονται με αυτές τις μεθόδους όπως οι νανοσωλήνες άνθρακα, το γραφένιο, οι μικρο και νάνο ηλεκτρομηχανικές διατάξεις και τα νανοσωματίδια μεταξύ άλλων.